MFM310

MFM310

處理XRR、XRF和XRD測量的FAB工具

理學MFM310通過光學或超聲波技術不能執行高精度測量。通過該完善的X射線計量工具可執行從超薄單層膜到多層膜的產品和空白晶圓的高吞吐量測量。

用於大批量生產的設計

MFM310充分考慮到大量生產200mm和300mm晶圓而設計:通過XRR和XRF高吞吐量測量厚度,用於產品晶圓測量的低雜質晶圓處理和基於模式識別的位置控制,用於半導體生產潔淨室操作的CE標記(CE Marking)和S2/S8規則(S2/S8 Compliance),遵守GEM-300/HSMS和工廠自動化標準,高可靠性機械性能和低功耗及低成本。

COLORS™ 技術

COLORS™ X射線光學器件通過理學MFM310實現小領域的測量而得到改善。COLORS的光束模塊與各種XRF激勵光源結合,通過優化為各種薄膜應用提供小點的高亮度。理學通過其優異實力為當前和未來的市場需求製造X射線源

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