濺鍍設備
建議使用漏磁低的磁流體密封裝置

太陽電池、觸摸屏、平板顯示器的生產所需要的,透明導電膜、增透膜都離不開濺射設備。理學磁流體密封有豐富的生產業績。
面向對象法、離子束法、磁控法、ECR法、反應濺射設備、可以滿足各種濺射設備的需求。
使用了磁鐵的磁流體密封裝置,被認為很難避免的磁通量漏洩, 理學磁流體密封的特殊構造妥善的解決了漏洩磁場這一難題。
理學獨自開發的磁回路構造,在不導磁座10mm以上距離時,不受磁場的任何影響。根據以上實驗數據得出結論,對等離子、離子和電子的影響可以不必介意的放心使用。