濺鍍設備

建議使用漏磁低的磁流體密封裝置

太陽電池、觸摸屏、平板顯示器的生產所需要的,透明導電膜、增透膜都離不開濺射設備。理學磁流體密封有豐富的生產業績。

面向對象法、離子束法、磁控法、ECR法、反應濺射設備、可以滿足各種濺射設備的需求。

使用了磁鐵的磁流體密封裝置,被認為很難避免的磁通量漏洩, 理學磁流體密封的特殊構造妥善的解決了漏洩磁場這一難題。

理學獨自開發的磁回路構造,在不導磁座10mm以上距離時,不受磁場的任何影響。根據以上實驗數據得出結論,對等離子、離子和電子的影響可以不必介意的放心使用。

適合於濺射設備的磁流體密封裝置

為了避免金屬污染,推薦使用真空側沒有軸承的懸臂式FMB-C系列、F1B-C系列磁流體密封裝置。

另外,推薦使用空心軸型磁流體密封裝置的旋轉軸可以通過電極和冷卻機制。推薦使用空心軸型懸臂式F1T-C系列。

選擇時請注意使用的溫度範圍和負重。 標準品不能對應的情況下、請與我們聯繫。

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