蝕刻設備

努力成為任何機種都能對應的磁流體密封

蝕刻設備的規格和加工方法繁多(活性氣體、高溫、高速旋轉、等離子、電極、離子素、強磁場、漏磁等)以往的磁流體密封難以全面對應。

理學的磁流體密封裝置為了在該領域中能夠早日解決以上問題,而不停的進行新技術的研討。

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